طلاء كربيد السيليكون

بصفتها شركة تصنيع حاملة رقاقة من طلاء SIC ، تُستخدم حاملات رقاقة طلاء النيميكاتور في النيمياء بشكل أساسي لتحسين توحيد نمو الطبقة الفوقية ، مما يضمن استقرارها وسلامتها في البيئات ذات درجة الحرارة المرتفعة والتآكل.

VETEK Semiconductor هي شركة تصنيع ALD Professional ALD. قامت Vetek بتطوير وإنتاج قواعد Ald Planetary المطلية بـ SIC مع الشركات المصنعة لنظام ALD لتلبية المتطلبات العالية لعملية ALD. مرحبا بكم استشاريك.

السقف المغلفة في CVD SIC من CVD في VETEK له خصائص ممتازة مثل مقاومة درجات الحرارة العالية ، ومقاومة التآكل ، والصلابة العالية ، ومعامل التمدد الحراري المنخفض ، مما يجعله اختيارًا مثاليًا للمادة في تصنيع أشباه الموصلات. بصفتك شركة تصنيع ومورد سقف مغلف في CVD الرائدة في الصين ، تتطلع أشباه الموصلات الفيتيكية إلى استشارةك.

VETEK Semiconductor هي الشركة المصنعة المحترفة لـ MOCVD LED EPI COSSOPSOR في الصين. تم تصميم EPI EPI LED MOCVD للمطالبة بتطبيقات المعدات الفوقية. إن الموصلية الحرارية العالية ، والاستقرار الكيميائي والمتانة من العوامل الرئيسية لضمان عملية نمو مخيطية مستقرة وإنتاج أفلام أشباه الموصلات.

يعد SiC Coating ALD Sumpceptor مكونًا دعمًا يستخدم خصيصًا في عملية ترسب الطبقة الذرية (ALD). يلعب دورًا رئيسيًا في معدات ALD ، مما يضمن توحيد ودقة عملية الترسب. نحن نعتقد أن منتجات ALD Planetary Sumpceptor يمكن أن تجلب لك حلول منتج عالية الجودة.

يستخدم حاجز طلاء CVD CVD في VETEK بشكل أساسي في SI Epitaxy. وعادة ما يستخدم مع براميل تمديد السيليكون. فهو يجمع بين درجة الحرارة الفريدة والاستقرار الفريدة من محارق طلاء CVD ، مما يحسن إلى حد كبير التوزيع الموحد لتدفق الهواء في تصنيع أشباه الموصلات. نعتقد أن منتجاتنا يمكن أن تجلب لك التكنولوجيا المتقدمة وحلول المنتجات عالية الجودة.