Aixtron MOCVD PORPORTOR

المشتبه بهم من إنتاجانها أشباه الموصلاتمصنوعة من ركيزة الجرافيت ومواد طلاء كربيد السيليكون (SiC). نظرًا لمقاومة التآكل العالية، ومقاومة التآكل والصلابة العالية للغاية لمادة SiC، فهي مناسبة بشكل خاص للاستخدام في بيئات العمليات القاسية. لذلك، يمكن استخدام المستقبلات التي تنتجها شركة Vetek Semiconductor مباشرة في عمليات MOCVD ذات درجات الحرارة العالية دون معالجة سطحية إضافية.

المصابون هي المكونات الرئيسية في تصنيع أشباه الموصلات ، وخاصة في معدات MOCVD لعمليات ترسب الأفلام الرقيقة. الدور الرئيسي لAixtron: إذن الدعمتتمثل عملية MOCVD في حمل رقائق أشباه الموصلات، وضمان ترسيب موحد وعالي الجودة للأغشية الرقيقة من خلال توفير توزيع موحد للحرارة وبيئة تفاعل، وبالتالي تحقيق إنتاج أفلام رقيقة عالي الجودة.

Aixtron MOCVD PORPORTORعادة ما يستخدم لدعم وإصلاح قاعدة رقائق أشباه الموصلات لضمان استقرار الرقاقة أثناء عملية الترسيب. في الوقت نفسه ، يتكون طلاء السطح لشركة Aixtron MOCVD من كربيد السيليكون (SIC) ، وهي مادة موصلة حرارياً للغاية. يضمن طلاء SIC درجة حرارة موحدة على سطح الرقاقة ، والتدفئة الموحدة ضرورية للحصول على أفلام عالية الجودة.

علاوة على ذلك ، وAixtron MOCVD PORPORTORيلعب إنتاجنا دورًا أكبر في التحكم في تدفق وتوزيع الغازات التفاعلية من خلال التصميم الأمثل للمواد. تجنب التيارات الدوامية وتدرجات درجات الحرارة لتحقيق ترسيب موحد للفيلم.

الأهم من ذلك ، في عملية MOCVD ، مادة طلاء كربيد السيليكون (SIC) لها مقاومة للتآكل ، لذلكانها أشباه الموصلات'sAixtron MOCVD PORPORTORيمكن أيضًا تحمل درجات الحرارة المرتفعة والغازات التآكل.

الخصائص الفيزيائية الأساسيةطلاء سيك:

نقض متاجر رقاقات رقاقات رقاقة النقل الفيتوكي:

نظرة عامة على سلسلة صناعة رقائق أشباه الموصلات: