دعم MOCVD

كماCVD كذا طلاءالشركة المصنعة ، أن أشباه الموصلات الفيتيك لديها القدرة على تزويدك بمقاييس Aixtron G5 MOCVD المصنوعة من طلاء الجرافيت عالي النقاء و CVD SIC (أقل من 5PPM). 

تعمل تقنية LED الصغيرة على تعطيل النظام الإيكولوجي LED الحالي مع الأساليب والمناهج التي لم يتم رؤيتها حتى الآن إلا في LCD أو صناعات أشباه الموصلات ، ونظام Aixtron G5 MOCVD يدعم تمامًا هذه المتطلبات التمديد الصارمة. يعد Aixtron G5 أحد أقوى مفاعلات MOCVD المصممة بشكل أساسي لنمو GAN Epitaxy المستند إلى السيليكون.

من الضروري أن يكون لجميع الرقاقات الفوقية المنتجة توزيعًا ضيقًا للغاية للطول الموجي ومستويات عيب منخفض للغاية ، الأمر الذي يتطلب مبتكرةتقنية MOCVD.

Aixtron G5 عبارة عن نظام epitaxy الأقراص الأفقي الكوكبي ، وخاصة القرص الكوكبي ، و MOCVD SOSSOPSOR ، وحلقة الغلاف ، والسقف ، والخاتم الداعم ، وقرص الغطاء ، وتجميع Exhuast ، و PIN غسالة ، وحلقة مدخلات جامع ، وما إلى ذلك.CVD TAC طلاء+جرافيت نقاء عالية ،شعر جامدوغيرها من المواد.

ميزات MOCVD Secsetor هي كما يلي

✔ حماية المواد الأساسية: يعمل طلاء CVD SIC كطبقة وقائية في العملية الفوقية ، والتي يمكن أن تمنع بشكل فعال تآكل وتلف البيئة الخارجية للمادة الأساسية ، ويوفر تدابير وقائية موثوقة ، وتوسيع عمر خدمة الجهاز.

✔ الموصلية الحرارية الممتازة: يتمتع طلاء CVD SIC بتوصيل حراري ممتاز ويمكنه نقل الحرارة بسرعة من المادة الأساسية إلى سطح الطلاء ، مما يحسن كفاءة الإدارة الحرارية أثناء epitaxy وضمان أن الجهاز يعمل ضمن نطاق درجة الحرارة المناسب.

✔ تحسين جودة الفيلم: يمكن أن يوفر طلاء CVD SIC سطحًا مسطحًا وموحدًا ، مما يوفر أساسًا جيدًا لنمو الأفلام. يمكن أن يقلل من العيوب الناجمة عن عدم تطابق شعرية ، وتحسين البلورة وجودة الفيلم ، وبالتالي تحسين أداء وموثوقية الفيلم الفوقي.

الخصائص الفيزيائية الأساسية لطلاء CVD SIC: