طلاء كربيد السيليكون

حامي طلاء CVD SIC في CVD في VETEK هو LPE SIC Epitaxy ، ويشير مصطلح "LPE" عادة إلى انخفاض الضغط (LPE) في ترسب البخار الكيميائي منخفض الضغط (LPCVD). في تصنيع أشباه الموصلات ، تعتبر LPE تقنية مهمة مهمة لزراعة الأفلام الرقيقة الكريستالية المفردة ، وغالبًا ما تستخدم لزراعة طبقات الحالة الفائقة السيليكون أو طبقات من أشباه الموصلات الأخرى. لا تتردد في الاتصال بنا لمزيد من الأسئلة.

إن أشباه الموصلات الفيتيكية محترفة في تصنيع طلاء CVD SIC ، وطلاء TAC على مادة الجرافيت ومواد كربيد السيليكون. نحن نقدم منتجات OEM و ODM مثل قاعدة التمثال المطلية بالسكان ، حاملة رقاقة ، ويفر تشاك ، صينية حاملة الرقاقة ، قرص كوكبي ، مع وجود 1000 غرفة نظيفة وجهاز تنقية ، يمكننا تزويدك بالمنتجات بأمانة أقل منك قريبا.

يتفوق Vetek Semiconductor بالتعاون بشكل وثيق مع العملاء لصياغة التصميمات المفصلة لخاتم مدخل SIC المصممة خصيصًا لتلبية الاحتياجات المحددة. تم تصميم حلقة مدخل طلاء SIC هذه بدقة لتطبيقات متنوعة مثل معدات SIC CVD و Cilicon Carbide Epitaxy. بالنسبة لحلول حلقة مدخل طلاء SIC المصممة ، لا تتردد في التواصل مع أشباه الموصلات النقض للمساعدة الشخصية.

Vetek Semiconductor هي الشركة المصنعة والمورد للمحترفين في الصين ، حيث تنتج بشكل أساسي حلقات الدعم المغلفة SIC ، وطلاءات CVD Carbide (SIC) ، وطلاءات Tantalum Carbide (TAC). نحن ملتزمون بتوفير الدعم الفني المثالي وحلول المنتجات النهائية لصناعة أشباه الموصلات ، مرحبًا بك في الاتصال بنا.

رقاقة قطعة أداة التثبيت في الرقاقة في عملية أشباه الموصلات وتستخدم على نطاق واسع في PVD ، الأمراض القلبية الوعائية ، ETCH وغيرها من العمليات. من خلال التصنيع الداخلي ، والأسعار التنافسية ، ودعم البحث والتطوير القوي ، يتفوق النيميكات الفيتوك في خدمات OEM/ODM للمكونات الدقيقة.

عملية ALD ، تعني عملية epitaxy الطبقة الذرية. طورت شركات النظم شبه الموصلات ونظام ALD أنتجت وإنتاج شباك ألكية المغلفة في SIC التي تلبي المتطلبات العالية لعملية ALD لتوزيع تدفق الهواء بالتساوي على الركيزة. في الوقت نفسه ، يضمن طلاء CVD SIC عالية النقاء لدينا نقاء في هذه العملية. مرحبًا بك لمناقشة التعاون معنا.