ALD المتفوق

كمحترفALD المتفوقالشركة المصنعة في الصين ، منتجاتناALD المتفوقتحدد التحكم الدقيق في درجة الحرارة وتوزيع غاز موحد والتوصيل الحراري الممتاز وخصائص المنتج الأخرى ذلكALD المتفوقيلعب دورًا مهمًا في عملية ترسب الطبقة الذرية (ALD). دور مهم ، مرحبًا بك في استشارتك.

ترسب فيلم رفيع موحد: يضمن ALD Sectospor ترسبًا موحدًا للطبقات الذرية على سطح الرقاقة بأكمله أثناء عملية ترسب الطبقة الذرية (ALD). يسمح تصميمه الدوار الفريد من الغازات والمتفاعلات بالاتصال بالتساوي على سطح الرقاقة ، مما يؤدي إلى سمك أفلام موحدة. هذا أمر بالغ الأهمية لتصنيع أشباه الموصلات عالية الدقة.

تحسين جودة الترسب: من خلال تحسين التحكم في درجة الحرارة وتوزيع الغاز ، يحسن ALD Secropceor جودة وأداء الفيلم بشكل كبير ، مما يقلل من العيوب وعدم التمييز. هذا يجعلها مثالية لتصنيع أشباه الموصلات عالية الدقة وتصنيع الأجهزة الإلكترونية ، مما يضمن موثوقية المنتج وأداءه.

يدعم المعالجة متعددة الفرق: تتيح بعض تصميمات ALD Secsposce معالجة رقائق متعددة في وقت واحد ، مما يزيد من كفاءة الإنتاج. هذا مهم بشكل خاص لبيئات التصنيع عالية الإنتاجية ، قادرة على تلبية احتياجات الإنتاج على نطاق واسع.

يستوعب مختلف الأحجام وأنواع الرققات: تم تصميم صغرات ALD عمومًا للتوافق العالي ويمكنهم دعم أحجام وأنواع مختلفة من الرقاقات. هذا يجعلها فعالة في مجموعة متنوعة من عمليات الإنتاج ، مما يوفر مرونة أكبر وقدرة على التكيف.

تقليل تكاليف الإنتاج: نظرًا لتوزيع الغاز الفعال وقدرات التدفئة الموحدة ، يزيد ALD من كفاءة عملية الترسب ، وبالتالي تقليل تكاليف النفايات والمواد. هذا لا يساعد فقط على تحسين كفاءة الإنتاج ولكن أيضًا يقلل بشكل كبير من تكاليف التصنيع.

الخصائص الفيزيائية الأساسية لطلاء CVD SIC:

متاجر الإنتاج:

لمحة عامة عن سلسلة صناعة شريحة أشباه الموصلات：