لماذا يحظى طلاء SiC بالكثير من الاهتمام؟ - فيتيك لأشباه الموصلات

في السنوات الأخيرة ، مع التطوير المستمر لصناعة الإلكترونيات ،الجيل الثالث أشباه الموصلاتأصبحت المواد قوة دافعة جديدة لتطوير صناعة أشباه الموصلات. كممثل نموذجي لمواد أشباه الموصلات من الجيل الثالث، فقد تم استخدام SiC على نطاق واسع في مجال تصنيع أشباه الموصلات، وخاصة فيالمجال الحراريالمواد ، بسبب خصائصها الفيزيائية والكيميائية الممتازة.

إذن ، ما هو بالضبط طلاء كذا؟ وماذاCVD كذا طلاء?

SiC عبارة عن مركب تساهمي ذو صلابة عالية، وموصلية حرارية ممتازة، ومعامل تمدد حراري منخفض، ومقاومة عالية للتآكل. يمكن أن تصل الموصلية الحرارية إلى 120-170 واط/م · كلفن، مما يُظهر التوصيل الحراري الممتاز في تبديد حرارة المكونات الإلكترونية. بالإضافة إلى ذلك، فإن معامل التمدد الحراري لكربيد السيليكون هو 4.0×10-6/K فقط (في نطاق 300-800 درجة مئوية)، مما يمكنه من الحفاظ على استقرار الأبعاد في البيئات ذات درجات الحرارة العالية، مما يقلل بشكل كبير من التشوه أو الفشل الناجم عن الحرارة. ضغط. يشير طلاء كربيد السيليكون إلى طلاء مصنوع من كربيد السيليكون يتم تحضيره على سطح الأجزاء عن طريق ترسيب البخار الفيزيائي أو الكيميائي، أو الرش، وما إلى ذلك.  

ترسيب البخار الكيميائي (CVD)هي حاليا التكنولوجيا الرئيسية لإعداد طلاء SIC على أسطح الركيزة. العملية الرئيسية هي أن المواد المتفاعلة في مرحلة الغاز تخضع لسلسلة من التفاعلات الفيزيائية والكيميائية على سطح الركيزة ، وأخيراً يتم إيداع طلاء CVD SIC على سطح الركيزة.

بيانات SEM لطلاء CVD SiC

بما أن طلاء كربيد السيليكون قوي جدًا، في أي وصلات من تصنيع أشباه الموصلات لعب دورًا كبيرًا؟ الجواب هو ملحقات إنتاج الفوقية.

يتمتع طلاء SIC بميزة رئيسية تتمثل في مطابقة عملية النمو الفوقية للغاية من حيث خصائص المواد. فيما يلي الأدوار المهمة وأسباب طلاء SIC فيكذا طلاء الفصح الحكومية:

1. الموصلية الحرارية العالية ومقاومة درجة الحرارة العالية

يمكن أن تصل درجة حرارة بيئة النمو الفوقي إلى أكثر من 1000 درجة مئوية. يتميز طلاء SiC بموصلية حرارية عالية للغاية، والتي يمكن أن تبدد الحرارة بشكل فعال وتضمن توحيد درجة الحرارة للنمو الفوقي.

2. الاستقرار الكيميائي

يتمتع طلاء SiC بخمول كيميائي ممتاز ويمكنه مقاومة التآكل بواسطة الغازات والمواد الكيميائية المسببة للتآكل، مما يضمن عدم تفاعله بشكل سلبي مع المواد المتفاعلة أثناء النمو الفوقي ويحافظ على سلامة ونظافة سطح المادة.

3. مطابقة شعرية ثابتة

في النمو الفوقي، يمكن مطابقة طلاء SiC جيدًا مع مجموعة متنوعة من المواد الفوقي نظرًا لبنيته البلورية، والتي يمكن أن تقلل بشكل كبير من عدم تطابق الشبكة، وبالتالي تقليل العيوب البلورية وتحسين جودة وأداء الطبقة الفوقي.

4. معامل التمدد الحراري المنخفض

يحتوي طلاء SIC على معامل تمدد حراري منخفض وهو قريب نسبيًا من المواد الفوقية الشائعة. هذا يعني أنه في درجات حرارة عالية ، لن يكون هناك إجهاد شديد بين القاعدة وطلاء SIC بسبب الفرق في معاملات التمدد الحراري ، وتجنب مشاكل مثل تقشير المواد أو التشققات أو التشوه.

5. صلابة عالية ومقاومة التآكل

يحتوي طلاء SIC على صلابة عالية للغاية ، لذا فإن طلاءها على سطح القاعدة الفوقية يمكن أن تحسن بشكل كبير من مقاومة التآكل وتوسيع عمر الخدمة ، مع ضمان عدم تلف الهندسة والسطح في القاعدة أثناء العملية الفوقية.

المقطع العرضي والصورة السطحية لطلاء SiC

بالإضافة إلى كونه ملحقًا للإنتاج الفوقي،يتمتع طلاء SIC أيضًا بمزايا كبيرة في هذه المجالات:

ناقلات رقائق أشباه الموصلات：أثناء معالجة أشباه الموصلات، يتطلب التعامل مع الرقائق ومعالجتها نظافة ودقة عالية للغاية. غالبًا ما يتم استخدام طلاء SiC في حاملات الرقاقات والأقواس والصواني.

ناقلة الويفر

حلقة التسخين المسبق：توجد حلقة التسخين المسبق على الحلقة الخارجية لدرج الركيزة الفوقي Si وتستخدم للمعايرة والتدفئة. يتم وضعها في غرفة التفاعل ولا تتصل مباشرة بالرقاقة.

  خاتم التسخين

الجزء العلوي نصف القمر هو الحامل للملحقات الأخرى لغرفة التفاعلكذا جهاز epitaxy، والتي يتم التحكم فيها في درجة الحرارة وتثبيتها في غرفة التفاعل دون ملامسة مباشرة مع الرقاقة. يتم توصيل جزء نصف القمر السفلي بأنبوب الكوارتز الذي يقدم الغاز لدفع الدوران الأساسي. يتم التحكم في درجة الحرارة ، وتثبيتها في غرفة التفاعل ولا تتلامس مباشرة مع الرقاقة.

جزء نصف القمر العلوي

بالإضافة إلى ذلك، هناك بوتقة ذوبان للتبخير في صناعة أشباه الموصلات، وبوابة أنبوبية إلكترونية عالية الطاقة، وفرشاة تتصل بمنظم الجهد، ووحدة تلوين أحادية اللون من الجرافيت للأشعة السينية والنيوترونات، وأشكال مختلفة من ركائز الجرافيت و تلعب أنبوب الامتصاص الذري ، وما إلى ذلك ، يلعب طلاء SIC دورًا متزايد الأهمية.

لماذا تختارانها أشباه الموصلات?

في Vetek Semiconductor ، تجمع عمليات التصنيع الخاصة بنا بين الهندسة الدقيقة مع مواد متقدمة لإنتاج منتجات طلاء SIC بأداء فائق ومتانة ، مثلحامل رقاقة المغلفة كذا، جهاز استقبال Epi طلاء SiC،جهاز استقبال Epi LED بالأشعة فوق البنفسجية, طلاء السيراميك السيليكون كربيدوكذا طلاء ألد سيسفيتوور. نحن قادرون على تلبية الاحتياجات المحددة لصناعة أشباه الموصلات بالإضافة إلى الصناعات الأخرى، مما يوفر للعملاء طلاء SiC مخصصًا عالي الجودة.

إذا كان لديك أي استفسارات أو تحتاج إلى تفاصيل إضافية ، فالرجاء عدم التردد في الاتصال بنا.

الغوغاء / واتساب: +86-180 6922 0752

البريد الإلكتروني: anny@veteksemi.com