منتجات

تلعب تقنية الرش الحراري لأشباه الموصلات من Vetek دورًا مهمًا للغاية في تطبيق طلاء البوتقات الملبدة لمواد المكثفات الخزفية متعددة الطبقات (MLCC). مع التصغير المستمر والأداء العالي للأجهزة الإلكترونية، فإن الطلب على مكثفات تقنية الرش الحراري MLCC يتزايد أيضًا بسرعة، خاصة في التطبيقات المتطورة. نتطلع إلى إقامة أعمال تجارية طويلة الأمد معك.

تلعب تقنية الرش الحرارية في فتيك في تطبيق الأسلحة الآلية للسكن ، وخاصة في بيئات تصنيع أشباه الموصلات التي تتطلب دقة عالية ونظافة عالية. تعمل هذه التكنولوجيا على تحسين المتانة والموثوقية وكفاءة العمل للمعدات من خلال طلاء مواد خاصة على سطح الذراع الآلي للرقص. مرحبا بكم في الاستفسار لنا.

تعد تقنية الرش الحراري لأشباه الموصلات من Vetek بمثابة عملية متقدمة تقوم برش المواد في حالة منصهرة أو شبه منصهرة على سطح الركيزة لتشكيل طبقة. تُستخدم هذه التقنية على نطاق واسع في مجال تصنيع أشباه الموصلات، وتستخدم بشكل أساسي لإنشاء طبقات ذات وظائف محددة على سطح الركيزة، مثل التوصيل والعزل ومقاومة التآكل ومقاومة الأكسدة. تشمل المزايا الرئيسية لتكنولوجيا الرش الحراري الكفاءة العالية، وسمك الطلاء الذي يمكن التحكم فيه، والتصاق الطلاء الجيد، مما يجعلها ذات أهمية خاصة في عملية تصنيع أشباه الموصلات التي تتطلب دقة وموثوقية عالية. نتطلع إلى سؤالكم.

يوفر Nanopowder Max Phase Max PhateCmi من Venteksemi خصائص حرارية وكهربائية استثنائية ، مثالية لتطبيقات علوم الإلكترونيات والمواد المتقدمة. مع مقاومة الأكسدة المتفوقة والاستقرار في درجة الحرارة العالية ، يعد Nanopowder في Venteksemi الحل الأمثل لتقنيات أشباه الموصلات المبتكرة.

عادةً ما يتم استخدام الفراغ الفراغ المسامي في النيميك في المكونات الرئيسية لمعدات تصنيع أشباه الموصلات ، خاصة عندما يتعلق الأمر بعمليات الأمراض القلبية الوعائية و PECVD. Vetek Semiconductor متخصص في تصنيع وتزويد فراغ SIC المسامي عالي الأداء. مرحبًا بك في استفساراتك الإضافية.

إن ظرف الفراغ الخزفي المسامي من Vetek Semiconductor's مصنوع من مادة سيراميك كربيد السيليكون (SiC)، التي تتمتع بمقاومة ممتازة لدرجات الحرارة العالية، وثبات كيميائي وقوة ميكانيكية. إنه مكون أساسي لا غنى عنه في عملية أشباه الموصلات. نرحب بمزيد من الاستفسارات الخاصة بك.