حلقات دليل طلاء TAC

وظيفة حلقات دليل طلاء TAC:

التحكم الدقيق في تدفق الغاز: الحلقة دليل طلاء TACيتم وضعه استراتيجيا داخل نظام حقن الغاز فيمفاعل MOCVD. تتمثل وظيفتها الأساسية في توجيه تدفق غازات السلائف وضمان توزيعها الموحد عبر سطح رقاقة الركيزة. يعد هذا التحكم الدقيق في ديناميات تدفق الغاز ضروريًا لتحقيق نمو الطبقة الفوقية الموحدة وخصائص المواد المطلوبة.

الإدارة الحرارية: تعمل حلقات دليل طلاء TAC غالبًا في درجات حرارة مرتفعة بسبب قربها من الحاسوب الساخن والركيزة. تساعد الموصلية الحرارية الممتازة لـ TAC على تبديد الحرارة بفعالية ، ومنع ارتفاع درجة الحرارة المحلية والحفاظ على ملف تعريف درجة حرارة مستقر داخل منطقة التفاعل.

مزايا TAC في MOCVD:

مقاومة درجات الحرارة القصوى: يضم TAC واحدة من أعلى نقاط ذوبان بين جميع المواد ، تتجاوز 3800 درجة مئوية.

الانتخابات الكيميائية المتميزة: يظهر TAC مقاومة استثنائية للتآكل والهجوم الكيميائي من غازات السلائف التفاعلية المستخدمة في MOCVD ، مثل الأمونيا ، السيلان ، والمركبات المعدنية العضوية المختلفة.

الخصائص الفيزيائيةطلاء TAC:

فوائد أداء MOCVD:

يساهم استخدام حلقة دليل طلاء أشباه الموصلات النقش في المعدات MOCVD بشكل كبير في:

زيادة المعدات وقت تشغيل: تقلل المتانة والعمر الممتد لخاتم دليل طلاء TAC من الحاجة إلى بدائل متكررة ، وتقليل وقت تعطل الصيانة وزيادة الكفاءة التشغيلية لنظام MOCVD.

تعزيز الاستقرار العملية: يساهم الاستقرار الحراري والختام الكيميائي لـ TAC في بيئة تفاعل أكثر استقرارًا ومكافحة داخل غرفة MOCVD ، مما يقلل من اختلافات العملية وتحسين القدرة على التكاثر.

تحسين توحيد الطبقة الفوقية: التحكم الدقيق في تدفق الغاز الذي يسهله حلقات دليل طلاء TAC يضمن توزيع السلائف الموحدة ، مما يؤدي إلى موحدة للغايةنمو الطبقة الفوقيةبسمك ثابت وتكوين.

طلاء Tantalum Carbide (TAC)على المقطع العرضي المجهري: