منتجات

يوفر Fetek Semiconductor أنابيب عملية عالية الأداء لتصنيع أشباه الموصلات. تتفوق أنابيب عملية SIC الخاصة بنا في الأكسدة ، وعمليات الانتشار. مع الجودة الفائقة والحرفية ، توفر هذه الأنابيب ثباتًا في درجات الحرارة العالية والتوصيل الحراري لمعالجة أشباه الموصلات الفعالة. نحن نقدم أسعارًا تنافسية ونسعى إلى أن تكون شريكك على المدى الطويل في الصين.

يتم استخدام مجداف SiC Cantilever من VeTek Semiconductor في أفران المعالجة الحرارية للتعامل مع قوارب الويفر ودعمها. يضمن ثبات درجة الحرارة العالية والتوصيل الحراري العالي لمادة SiC كفاءة وموثوقية عالية في عملية معالجة أشباه الموصلات. نحن ملتزمون بتقديم منتجات عالية الجودة بأسعار تنافسية ونتطلع إلى أن نصبح شريكك على المدى الطويل في الصين.

عملية ALD ، تعني عملية epitaxy الطبقة الذرية. طورت شركات النظم شبه الموصلات ونظام ALD أنتجت وإنتاج شباك ألكية المغلفة في SIC التي تلبي المتطلبات العالية لعملية ALD لتوزيع تدفق الهواء بالتساوي على الركيزة. في الوقت نفسه ، يضمن طلاء CVD SIC عالية النقاء لدينا نقاء في هذه العملية. مرحبًا بك لمناقشة التعاون معنا.

يستخدم معالج الجرافيت المطلي بـ TaC من VeTek Semiconductor طريقة ترسيب البخار الكيميائي (CVD) لتحضير طلاء كربيد التنتالوم على سطح أجزاء الجرافيت. هذه العملية هي الأكثر نضجًا ولها أفضل خصائص الطلاء. يمكن لـ TaC Coated Graphite Susceptor إطالة عمر خدمة مكونات الجرافيت، ومنع هجرة شوائب الجرافيت، وضمان جودة النفوق. نحن نتطلع إلى استفسارك.

حق النقض يوفر أشباه أشباه الموصلات النقش. يوفر طلاء SIC الاستقرار الحراري المتفوق ، والمقاومة الكيميائية الممتازة ، وتوحيد العملية المحسّنة ، مما يضمن الأداء الأمثل والموثوقية. جرب المستوى التالي من الكفاءة والدقة مع شباك القرص المغطى بالشكلات المنقولة عن أشباه الموصلات.

يعد Craphite Crucible جزءًا مهمًا من البوتقات التي تجذب بلورات أحادية الصبغة في عملية تحقيق نمو سيليكون سلينيكون أحادي البلورة. في الأداء والجودة والفعالية من حيث التكلفة لتلبية الاحتياجات المتطورة للصناعة.