منتجات

بصفتها الشركة المصنعة المحترفة والمبتكرة والزعيم لمنتجات TAC Coating Rotation Sectation في الصين. عادةً ما يتم تثبيت حسس دوران طلاء أشباه الموصلات النقش في ترسب البخار الكيميائي (CVD) ومعدات الحزمة الجزيئية (MBE) لدعم وتدوير الرقاقات لضمان ترسب موحد وتفاعل فعال. إنه مكون رئيسي في معالجة أشباه الموصلات. مرحبًا بكم مزيد من الاستشارة.

Vetek Semiconductor هي الشركة المصنعة المحترفة والزعيم لمنتجات CVD TAC Coating Cruitible في الصين. يعتمد CVD TAC Coating Cruitible على طلاء Tantalum Carbon (TAC). تتم تغطية طلاء الكربون tantalum بالتساوي على سطح البوتقة من خلال عملية ترسيب البخار الكيميائي (CVD) لتعزيز مقاومة الحرارة ومقاومة التآكل. إنها أداة مادية تستخدم خصيصًا في البيئات القصوى عالية درجة الحرارة. مرحبًا بكم مزيد من الاستشارة.

Vetek Semiconductor هي شركة تصنيع محترفة وقائد لمنتجات Helder المغلفة في الصين. حامل الرقاقة المطلي SIC هو حامل رقاقة لعملية epitaxy في معالجة أشباه الموصلات. إنه جهاز لا يمكن تعويضه يستقر على الرقاقة ويضمن النمو الموحد للطبقة الفوقية. مرحبًا بكم مزيد من الاستشارة.

بصفتها شركة محترفة لتصنيع منتجات CVD TAC Coating Carrier Carrier في الصين ، فإن CVD CVD CVD TAC Coating Carrier هي أداة حمل رقاقة مصممة خصيصًا لدرجات الحرارة المرتفعة والبيئات المسببة للتآكل في تصنيع أشباه الموصلات. و CVD TAC Coating Wefer Carrier لديها قوة ميكانيكية عالية ومقاومة تآكل ممتازة واستقرار حراري ، مما يوفر الضمان اللازم لتصنيع أجهزة أشباه الموصلات عالية الجودة. استفساراتك الإضافية موضع ترحيب.

VETEK Semiconductor هي شركة مصنعة ومصنع للرقاقة في برنامج EPI المحترف في الصين. EPI Wefer Holder هو حامل رقاقة لعملية Epitaxy في معالجة أشباه الموصلات. إنها أداة أساسية لتحقيق الاستقرار في الرقاقة وضمان نمو موحد للطبقة الفوقية. يستخدم على نطاق واسع في معدات epitaxy مثل MOCVD و LPCVD. إنه جهاز لا يمكن الاستغناء عنه في عملية Epitaxy. مرحبًا بكم مزيد من الاستشارة.

تعتبر شركة Aixtron Satellite Wefer Aixtron من Aixtron هي حاملة رقاقة تستخدم في معدات Aixtron ، وتستخدم بشكل رئيسي في عمليات MOCVD ، وهي مناسبة بشكل خاص لعمليات معالجة أشباه الموصلات عالية الدقة والدرجات العالية. يمكن أن توفر الناقل دعمًا ثابتًا للرقاقة وترسب موحد للأفلام أثناء النمو الفوقي MOCVD ، وهو أمر ضروري لعملية ترسب الطبقة. مرحبًا بكم مزيد من الاستشارة.