ترسب البخار المادي

Vetek Semiconductor هي شركة تصنيع صينية تقدم مواد أشباه الموصلات المتقدمة في عملية ترسيب البخار الفيزيائي مثلبوتقة مغلفة بـ SiCبوتقة الكربون الزجاجية،سخانات الجرافيت طلاء كذا،بوتقات التبخر بمسدس الشعاع الإلكتروني.

المبادئ الأساسية لعملية PVD

تتضمن عمليات ترسيب البخار المادي عادة مجموعة متنوعة من الطرق المحددة مثل التبخر ، والتخلي ، والطلاء الأيوني. بغض النظر عن الطريقة المستخدمة ، فإن المبدأ الأساسي لترسب البخار المادي هو تبخير المادة من المصدر من خلال التدفئة عالية الحرارة أو القصف الأيوني. تتحرك المادة البخارية في شكل ذرات أو جزيئات في بيئة فراغ أو منخفض الضغط وتتكثف في فيلم رفيع على سطح الركيزة. يتم تحقيق هذه العملية بشكل أساسي بالوسائل الفيزيائية ، وبالتالي تجنب تأثير التفاعلات الكيميائية على نقاء المادة.

مزايا تقنية ترسيب البخار الفيزيائي

نقاء عالية وكثافة عالية: عادة ما يكون للأفلام المودعة PVD نقاء وكثافة عالية ، والتي يمكن أن تحسن بشكل كبير من أداء الطلاء ، مثل مقاومة التآكل ، ومقاومة التآكل والصلابة.

التصاق فيلم قوي: يمكن أن تشكل عملية PVD فيلمًا مع تصاق قوي على الركيزة ، مما يضمن أن الفيلم ليس من السهل تقشيره أثناء الاستخدام ، مما يمتد عمر خدمة المنتج.

مجموعة واسعة من اختيار المواد.

حماية البيئة والاستدامة: بالمقارنة مع عمليات مثل ترسيب البخار الكيميائي (CVD)، تعد عملية ترسيب البخار الفيزيائي (PVD) أكثر ملاءمة للبيئة، ولا تنطوي على توليد غازات ضارة، وتقلل من التلوث للبيئة.

تطبيق تكنولوجيا PVD

صناعة أشباه الموصلات: في تصنيع أشباه الموصلات ، غالبًا ما يتم استخدام ترسب البخار المادي في إعداد أقطاب الفيلم الرفيعة ، وحواجز الانتشار والترابط المعدني لضمان أن المكونات لها موصلية جيدة واستقرار.

الأجهزة البصرية: تستخدم تقنية ترسيب البخار المادي على نطاق واسع في الطلاء البصري ، مثل الطلاء المضاد للعكس للمرايا والعدسات ، وتصنيع المرشحات البصرية لتحسين أداء الأجهزة البصرية.