تقنية موكفد

تعتبر شركة Vetek Semiconductor SiC Graphite Barrel Soundor عبارة عن علبة رقاقة عالية الأداء مصممة لعمليات epitaxy أشباه الموصلات ، مما يوفر توصيلًا حراريًا ممتازًا ودرجات حرارة عالية ومقاومة كيميائية ، وسطح عالي النقاء ، وخيارات قابلة للتخصيص لتعزيز كفاءة الإنتاج. مرحبًا بك في استفسارك الإضافي.

بصفته أحد الموردين الرائد في GAN SESSOPSITOR والمصنع في الصين ، فإن SEMONUTURSOR VETEK GAN SESSOPSOR هو عبارة عن حساسية عالية الدقة مصممة لعملية النمو الفوقي GAN ، وتستخدم لدعم المعدات الفوقية مثل CVD و MOCVD. في تصنيع أجهزة GAN (مثل الأجهزة الإلكترونية للطاقة ، وأجهزة RF ، ومصابيح LED ، وما إلى ذلك) ، يحمل GAN Sexopeal Soundor الركيزة ويحقق ترسبًا عالي الجودة للأفلام الرقيقة GAN تحت بيئة درجة حرارة عالية. مرحبًا بك في استفسارك الإضافي.

تنتج أشباه الموصلات الفيتيكية سخان MOCVD للطلاء ، وهو مكون رئيسي لعملية MOCVD. استنادًا إلى ركيزة جرافيت عالية النقاء ، يتم طلاء السطح باستخدام طلاء SIC عالي النقاء لتوفير استقرار ممتازة في درجات الحرارة العالية ومقاومة التآكل. مع خدمات المنتجات عالية الجودة والمنتجات عالية المخصصة ، يعد سخان MOCVD للطلاء من أشباه الموصلات في VETEK خيارًا مثاليًا لضمان استقرار عملية MOCVD وجودة ترسب الأفلام الرقيقة. تتطلع أشباه الموصلات الفيتيكية إلى أن تصبح شريكًا لك.

Vetek Semiconductor هي الشركة المصنعة الرائدة والمورد لمنتجات طلاء SIC في الصين. يتمتع EPI Carbide المغطى بالسيليكون المغطى بالكربيد في VETEK ، وهو مستوى ذي جودة عالية في هذا المجال ، وهو مناسب لأنماط متعددة من أفران النمو الفوقي ، ويوفر خدمات منتجات مخصصة للغاية. يتطلع أشباه الموصلات الفيتيكية إلى أن تصبح شريكك على المدى الطويل في الصين.

يلعب غطاء القمر الصناعي المطلي لـ SIC لـ MOCVD دورًا لا يمكن الاستغناء عنه في ضمان نمو ثاني عالي الجودة على رقائق بسبب مقاومة درجة الحرارة العالية للغاية ، ومقاومة التآكل الممتازة ومقاومة الأكسدة المتميزة.

حامل برميل رقاقة CVD SIC هو المكون الرئيسي لفرن النمو الفوقي ، يستخدم على نطاق واسع في أفران النمو الفوقي MOCVD. يوفر لك أشباه الموصلات Vetek منتجات مخصصة للغاية. بغض النظر عن احتياجاتك بالنسبة إلى حامل برميل الويفر المغلفة من CVD ، مرحبًا بك في استشارةنا.