الدعم المغلفة ل LPE PE2061S

الدعم المغلفة في أشباه الموصلات النقش في VETEK ل LPE PE2061s في معدات epitaxy السيليكون ، المستخدمة بالاقتران مع شباك نوع البرميل لدعم الرقصات الفوقية (أو الركائز) أثناء عملية النمو الفوقي.

يتم استخدام اللوحة السفلية بشكل أساسي مع الفرن الفوقي البرميل ، والفرن الفوقي البرميل لديه غرفة تفاعل أكبر وكفاءة إنتاج أعلى من الصعق الفوقي المسطح. يحتوي الدعم على تصميم ثقب مستدير ويستخدم في المقام الأول لمنفذ العادم داخل المفاعل.

LPE PE2061S عبارة عن قاعدة دعم للجرافيت المغلفة بالسيليكون (SIC) مصممة لتصنيع أشباه الموصلات ومعالجة المواد المتقدمة ، مناسبة لبيئات العمليات المرتفعة للدرجات المترتبة على درجة الحرارة (مثل تقنية تجريد الطور السائل LPE ، و MOCVD للمعادن المعدنية ، وما إلى ذلك). يجمع تصميمه الأساسي بين الفوائد المزدوجة لركيزة الجرافيت عالية النقاء مع طلاء SIC كثيف لضمان الاستقرار ومقاومة التآكل والتوحيد الحراري في ظل الظروف القاسية.

السمة الأساسية

● مقاومة درجات الحرارة العالية:

يمكن لطلاء SIC أن يقاوم درجات حرارة عالية أعلى من 1200 درجة مئوية ، ومعامل التمدد الحراري يتطابق بشكل كبير مع الركيزة الجرافيت لتجنب تكسير الإجهاد الناجم عن تقلبات درجة الحرارة.

●  التوحيد الحراري الممتاز:

يضمن طلاء SIC الكثيف ، الذي يتكون من تقنية ترسب البخار الكيميائي (CVD) ، توزيع حرارة موحدة على سطح القاعدة ويحسن توحيد ونقاء الفيلم الفوقي.

●  أكسدة ومقاومة التآكل:

يغطي طلاء SIC بالكامل الركيزة الجرافيت ، ويمنع الأكسجين والغازات المسببة للتآكل (مثل NH₃ ، H₂ ، إلخ) ، ويمدد حياة القاعدة بشكل كبير.

●  قوة ميكانيكية عالية:

يتمتع الطلاء بقوة الترابط مع مصفوفة الجرافيت ، ويمكنه تحمل العديد من دورات درجات الحرارة العالية ودرجات الحرارة المنخفضة ، مما يقلل من خطر الضرر الناجم عن الصدمة الحرارية.

●  نقاء فائقة:

تلبية متطلبات محتوى الشوائب الصارمة لعمليات أشباه الموصلات (محتوى الشوائب المعدنية ≤1ppm) لتجنب تلوث الرقاقات أو المواد الفوقية.

العملية الفنية

●  تحضير الطلاء: عن طريق ترسب البخار الكيميائي (CVD) أو طريقة تضمين درجة الحرارة العالية ، يتم تشكيل طلاء β-SIC (3C-SIC) الكثيف والكثيف على سطح الجرافيت مع قوة الترابط العالية والاستقرار الكيميائي.

●  الآلات الدقيقة: يتم تشكيل القاعدة بدقة بواسطة أدوات آلة CNC ، وخشونة السطح أقل من 0.4μm ، وهو مناسب لمتطلبات تحمل الرقاقة عالية الدقة.

حقل التطبيق

●  معدات MOCVD: بالنسبة إلى GAN ، SIC وغيرها من الموصلات النمو الفائقة ، الدعم والركيزة الموحدة للتدفئة.

●  السيليكون/كذا epitaxy: يضمن ترسب جودة عالي من طبقات epitaxy في تصنيع سيليكون أو أشباه الموصلات.

●  عملية تجريد المرحلة السائلة (LPE): يتكيف مع تقنية تجريد المواد المساعقة بالموجات فوق الصوتية لتوفير منصة دعم مستقرة للمواد ثنائية الأبعاد مثل الجرافين والتشالكوجينات المعدنية الانتقالية.

ميزة تنافسية

●  الجودة القياسية الدولية: الأداء القياسي Toyotanso ، SGLCarbon وغيرها من الشركات المصنعة الدولية ، مناسبة لمعدات أشباه الموصلات السائدة.

●  خدمة مخصصة: دعم شكل القرص وشكل البرميل وغيره من تخصيص شكل الأساس ، لتلبية احتياجات التصميم من التجاويف المختلفة.

●  ميزة التوطين: تقصير دورة العرض ، وتوفير استجابة فنية سريعة ، وتقليل مخاطر سلسلة التوريد.

ضمان الجودة

●  اختبار صارم: تم التحقق من الكثافة والسماكة (القيمة النموذجية 100 ± 20μm) ونقاء التكوين للطلاء بواسطة SEM و XRD والوسائل التحليلية الأخرى.

●  اختبار الموثوقية: محاكاة بيئة العملية الفعلية لدورة درجة حرارة عالية (1000 درجة مئوية → درجة حرارة الغرفة ، ≥ 100 مرة) واختبار مقاومة التآكل لضمان الاستقرار على المدى الطويل.

●  الصناعات المعمول بها: تصنيع أشباه الموصلات ، LED Epitaxy ، إنتاج جهاز RF ، إلخ.

بيانات SEM وهيكل أفلام CVD SIC ：