منتجات

في Vetek Semiconductor ، تم تصميم الحقول الحرارية الجرافيت بدقة لتلبية المعايير الصارمة لصناعة الكهروضوئية ، مما يضمن الأداء والكفاءة الأمثل عبر التطبيقات المختلفة. نحن ملتزمون بتصنيع الحقول الحرارية الجرافيتية عالية الأداء التي توفر جودة استثنائية وفعالية من حيث التكلفة. لا يتردد في الاتصال بنا للحصول على أي سؤال أو سعر فني.

تم تصميم Silicon Silicon Crystal Jig لضمان نقاء الرقائق والتحكم الدقيق في المناطق الساخنة أثناء التبلور ، مما يوفر حلولًا مستدامة وفعالة لصناعة الكهروضوئية. يتطلع Veteksemicon إلى وضع تعاون طويل الأجل معك.

يستخدم المجال الحراري لفرن السيليكون أحادي البلورة الجرافيت باعتباره البوتقة ، ويستخدم المدفأة ، وحلقة التوجيه ، والقوس ، وحامل القوس المصنوع من الجرافيت المضغوط المتساوي لضمان قوة ونقاء بوتقة الجرافيت. تنتج أشباه الموصلات الفيتيكية بوتقة للسيليكون أحادي البلورة ، والحياة الطويلة ، والنقاء العالي ، مرحبًا بك في استشارةنا.

تركز شركة Vetek Semiconductor على البحث والتطوير وتصنيع طلاء CVD SiC وطلاء CVD TaC. بأخذ مادة طلاء SiC كمثال، تتم معالجة المنتج بدرجة عالية بدقة عالية وطلاء CVD SIC كثيف ومقاومة درجات الحرارة العالية ومقاومة قوية للتآكل. استفسارك في الولايات المتحدة هو موضع ترحيب.

CVD SIC كتلة لنمو البلورة SIC ، هي مادة خام جديدة عالية النقاء التي طورها أشباه الموصلات الفيتيكية. لديها نسبة عالية من المدخلات والمخرجات ويمكن أن تنمو بلورات واحدة عالية الجودة كربيد السيليكون ، وهي مادة من الجيل الثاني لتحل محل المسحوق المستخدم في السوق اليوم. مرحبا بكم لمناقشة القضايا التقنية.

يوصي Carbide من سيليكون فائقة الموصلات النقش (SIC) الذي يتكون من ترسب البخار الكيميائي (CVD) لاستخدامه كمواد مصدر لزراعة بلورات كربيد السيليكون بواسطة نقل البخار المادي (PVT). في النمو الكريستالي SIC ، يتم تحميل مادة المصدر في بوتقة وتساميه على بلورة البذور. استخدم كتل CVD-SIC عالية النقاء لتكون مصدرًا لزراعة بلورات SIC. مرحبًا بك في إنشاء شراكة معنا.