أخبار الصناعة

على مدى عقدين من الزمن وأنا في طليعة الابتكار التكنولوجي، رأيت المكونات تأتي وتذهب. لكن القليل منها قد ولّد ضجة مستدامة مثل مسحوق SiC عالي النقاء. إنها ليست مجرد مادة أخرى؛ إنه العنصر الأساسي الذي يدفع حدود ما هو ممكن في السيارات الكهربائية.

في VeTek Semiconductor، تخصصنا في دفع حدود ما هو ممكن باستخدام سيراميك كربيد السيليكون المتقدم، وتطوير درجات مصممة خصيصًا لتزدهر حيث تتعثر المواد الأخرى.

لقد شعرنا جميعًا تلك اللحظة من الذعر. بطارية هاتفك بنسبة 5 ٪ ، لديك دقائق لتجنيبها ، وكل ثانية موصولة تبدو وكأنها الأبدية. ماذا لو كان سر إنهاء هذا القلق لا يكمن في كيمياء جديدة تمامًا ، ولكن في إعادة تخيل مادة أساسية داخل البطارية نفسها؟ على مدار عقدين في طليعة التكنولوجيا ، رأيت الاتجاهات تأتي وتذهب. لكن الطنانة حول الجرافيت المسامية تشعر بأنها مختلفة. إنها ليست مجرد خطوة تدريجية ؛ إنه يمثل تحولًا أساسيًا في كيفية تعاملنا مع تصميم تخزين الطاقة.

في VETEK ، أمضينا عقودًا في تحسين حلول الرسوم البيانية المتناحية الخاصة بنا للصناعات التي تتطلب موثوقية في درجات حرارة مرتفعة. دعنا نتعرف على سبب كون هذه المادة خيارًا أفضل - وكيف تتفوق منتجاتنا على المنافسة.

بعد أن عملت في صناعة أشباه الموصلات لأكثر من عقد من الزمان ، أفهم بشكل مباشر كيف يمكن أن يكون اختيار المواد الصعبة في بيئات عالية الحرارة وعالية الطاقة. لم يكن حتى واجهت كتلة SIC في Vetek ، حيث وجدت أخيرًا حلاً موثوقًا به حقًا.

في صناعة تصنيع أشباه الموصلات ، مع استمرار تقلص حجم الجهاز ، فإن تقنية ترسب مواد الأفلام الرقيقة قد طرحت تحديات غير مسبوقة. أصبح ترسب الطبقة الذرية (ALD) ، باعتباره تقنية ترسب فيلم رقيقة يمكن أن تحقق تحكمًا دقيقًا على المستوى الذري ، جزءًا لا غنى عنه من تصنيع أشباه الموصلات. تهدف هذه المقالة إلى تقديم تدفق العملية ومبادئ ALD للمساعدة في فهم دورها المهم في تصنيع الرقائق المتقدمة.