طلاء كربيد التنتالوم

Vetek Semiconductor هو مورد Carbide Carbide المخصص Carbide Wefer Carrier في الصين. لقد كنا متخصصين في مواد متقدمة منذ أكثر من 20 عامًا. نقدم حاملة رقاقة سيليكونية من السيليكون لحمل الركيزة الشديدة ، وهي طبقة Epitaxy المتزايدة في المفاعل العلوي. هذا الناقل الويفير Epitaxy epitaxy سيليكون هو جزء مهم من جزء من نصفها ، ومقاومة درجة الحرارة العالية ، ومقاومة الأكسدة ، ومقاومة التآكل. نرحب بكم لزيارة مصنعنا في الصين.

الجرافيت المسامي مع المغلفة TAC هو مادة معالجة أشباه الموصلات المتقدمة التي يقدمها أشباه الموصلات الفيتيكية. يجمع الجرافيت المسامي مع المغلفة TAC بين مزايا طلاء الجرافيت والكربيد المسامي (TAC) ، مع الموصلية الحرارية الجيدة ونفاذية الغاز. تلتزم أنظمت أشباه الموصلات VETEK بتوفير منتجات عالية الجودة بأسعار تنافسية.

يتكون غطاء طلاء كربيد tantalum من الجرافيت عالي النقاء وطبقة TAC. Vetek Semiconductor هو المورد الرائد والشركة المصنعة لغطاء طلاء كربيد Tantalum في الصين. نحن نركز على توفير منتجات كربيد Tantalum عالية الدقة عالية الحرارة. الغطاء المغطى بالكربيد Tantalum لدينا له أداء وموثوقية ممتازة ، ويمكن أن يحمي المواد بشكل فعال في درجة حرارة عالية للغاية وبيئات تآكل. نتطلع إلى أن تصبح شريكك على المدى الطويل في الصين. مرحبًا بك في الاستشارة في أي وقت.

تعتبر حلقة Deflector المغلفة في TAC المغلفة في VETEK مكونًا متخصصًا للغاية مصمم لعمليات نمو البلورة SIC. يوفر طلاء TAC مقاومة ممتازة عالية في درجة الحرارة والختام الكيميائي للتعامل مع درجات الحرارة المرتفعة والبيئات المسببة للتآكل أثناء عملية نمو البلورة. هذا يضمن أداء مستقر وعمر طويل للمكون ، مما يقلل من تواتر الاستبدال والوقت. نحن ملتزمون بتوفير منتجات عالية الجودة بأسعار تنافسية ونتطلع إلى أن تكون شريكك على المدى الطويل في الصين.

يستخدم الأنبوب المطلي بالكربيد Tantalum للنمو البلوري بشكل أساسي في عملية نمو البلورة. تقوم أشباه الموصلات الفيتيكية بتزويد أنبوب المغلفة بالكربيد Tantalum لنمو البلورة لسنوات عديدة ويعمل في مجال طلاء TAC لسنوات عديدة. منتجاتنا لديها نقاء عالية ومقاومة عالية درجة الحرارة. نتطلع إلى أن تصبح شريكك على المدى الطويل في الصين. لا تتردد في الاستفسار عنا.

VeTek Semiconductor هي شركة رائدة في مجال تصنيع ومبتكرة التكنولوجيا للحلقة المطلية بـ TaC لمفاعل SiC الفوقي في الصين، مع التركيز على توفير حلول عالية الأداء لمفاعلات SiC الفوقي. لدينا سنوات عديدة من الخبرة في تكنولوجيا طلاء TaC. تتميز الحلقة المطلية بـ TaC بخصائص النقاء العالي، والثبات العالي، والمقاومة الممتازة للتآكل، وما إلى ذلك، ويمكن أن توفر أداءً مستقرًا على المدى الطويل في بيئة العمل القاسية للمفاعلات الفوقي. ونحن نتطلع إلى إقامة شراكة استراتيجية طويلة الأمد معكم.