منتجات

تجمع أشباه الموصلات في المصنع الصيني Top Factory بين القدرات الدقيقة للتصنيع والموصل SIC و TAC. يوفر نوع البرميل Si Epi Sumpceptor إمكانات للتحكم في درجة الحرارة والجو ، مما يعزز كفاءة الإنتاج في عمليات النمو الفوقي شبه الموصل.

بصفتها الشركة العليا المصنعة للكربيد السيليكون والكربيد tantalum ، فإن أشباه الموصلات الفيطورية قادرة على توفير الآلات الدقيقة والطلاء الموحد من حساس EPI المطلي بـ SIC ، والتحكم فعليًا في نقاء الطلاء والمنتج أقل من 5PP. حياة المنتج مماثلة لحياة SGL. مرحبا بكم في الاستفسار عنا.

إن المستقبِل المسطح والمستقبل البرميلي هما الشكل الرئيسي لمستقبلات epi. VeTek Semiconductor هي شركة رائدة في تصنيع ومبتكر مجموعة LPE Si Epi Susceptor في الصين. لقد تخصصنا في طلاء SiC وطلاء TaC لسنوات عديدة. نحن نقدم LPE Si Epi Susceptor تم تصميم المجموعة خصيصًا لرقائق LPE PE2061S مقاس 4 بوصات. درجة مطابقة مادة الجرافيت وطلاء SiC جيدة، والتوحيد جيد ممتاز، والعمر طويل، مما يمكن أن يحسن إنتاجية نمو الطبقة الفوقية أثناء عملية LPE (الطور السائل). نرحب بكم لزيارة مصنعنا في الصين.

يتم تطبيق الطلاءات الكربونية البيروليتية على نطاق واسع على شعر جامد. Vetek Semiconductor هي الشركة الرائدة في مجال تصنيع طلاء PYC المخصصة في الصين ، وتخصص في المواد المتقدمة لسنوات عديدة. حلقة طلاء PYC الصارمة لدينا لها سطح كثيف ونقاء عالي. مع 2 مختبرات و 12 خطًا للإنتاج ، ورش عمل من فئة ألف من الدرجة والمائة في مصنعنا ، مرحبًا بك لزيارتنا.

يتكون نظام Aixtron G5 MOCVD من مواد الجرافيت ، والجرافيت المغطى بالكربيد السيليكون ، والكوارتز ، والمواد المصنفة الصلبة ، وما إلى ذلك. لقد تخصصنا في أجزاء الجرافيت والكوارتز شبه الموصلات لسنوات عديدة. هذه مجموعة Aixtron G5 MOCVD Secrosports هي حل متعدد الاستخدامات وفعال لتصنيع أشباه الموصلات مع حجمها الأمثل وتوافقه وإنتاجية عالية.

إن قاعدة تسخين الويفر الفوقي من النوع البرميلي عبارة عن منتج ذو تكنولوجيا معالجة معقدة، وهو أمر يمثل تحديًا كبيرًا لمعدات التصنيع والقدرة. تتمتع شركة Vetek Semiconductor بمعدات متقدمة وخبرة غنية في معالجة مستقبِل برميل الجرافيت المطلي بـ SiC لـ EPI، ويمكن أن توفر نفس عمر المصنع الأصلي، وبراميل فوقية أكثر فعالية من حيث التكلفة. إذا كنت مهتمًا ببياناتنا، فلا تتردد في الاتصال بنا.