منتجات

فوهات طلاء CVD SIC هي مكونات حاسمة المستخدمة في عملية Epitaxy LPE SIC لإيداع مواد كربيد السيليكون أثناء تصنيع أشباه الموصلات. عادة ما تكون هذه الفوهات مصنوعة من مواد كربيد السيليكون ذات درجة الحرارة العالية والكيميائية لضمان الاستقرار في بيئات المعالجة القاسية. تم تصميمها للترسب الموحد ، وهي تلعب دورًا رئيسيًا في التحكم في جودة وتوحيد الطبقات الفوقية التي تزرع في تطبيقات أشباه الموصلات. مرحبًا بك في استفسارك الإضافي.

حامي طلاء CVD SIC في CVD في VETEK هو LPE SIC Epitaxy ، ويشير مصطلح "LPE" عادة إلى انخفاض الضغط (LPE) في ترسب البخار الكيميائي منخفض الضغط (LPCVD). في تصنيع أشباه الموصلات ، تعتبر LPE تقنية مهمة مهمة لزراعة الأفلام الرقيقة الكريستالية المفردة ، وغالبًا ما تستخدم لزراعة طبقات الحالة الفائقة السيليكون أو طبقات من أشباه الموصلات الأخرى. لا تتردد في الاتصال بنا لمزيد من الأسئلة.

إن أشباه الموصلات الفيتيكية محترفة في تصنيع طلاء CVD SIC ، وطلاء TAC على مادة الجرافيت ومواد كربيد السيليكون. نحن نقدم منتجات OEM و ODM مثل قاعدة التمثال المطلية بالسكان ، حاملة رقاقة ، ويفر تشاك ، صينية حاملة الرقاقة ، قرص كوكبي ، مع وجود 1000 غرفة نظيفة وجهاز تنقية ، يمكننا تزويدك بالمنتجات بأمانة أقل منك قريبا.

يتفوق Vetek Semiconductor بالتعاون بشكل وثيق مع العملاء لصياغة التصميمات المفصلة لخاتم مدخل SIC المصممة خصيصًا لتلبية الاحتياجات المحددة. تم تصميم حلقة مدخل طلاء SIC هذه بدقة لتطبيقات متنوعة مثل معدات SIC CVD و Cilicon Carbide Epitaxy. بالنسبة لحلول حلقة مدخل طلاء SIC المصممة ، لا تتردد في التواصل مع أشباه الموصلات النقض للمساعدة الشخصية.

Vetek Semiconductor متخصصة في الشراكة مع عملائها لإنتاج تصميمات مخصصة لعلاج الناقل الويفر. يمكن تصميم صينية حاملة الرقاقة للاستخدام في CVD Silicon Epitaxy و III-V Epitaxy و III-Nitride Epitaxy و Silicon Carbide Epitaxy. يرجى الاتصال بـ Vetek Semiconductor فيما يتعلق بمتطلبات Secrosport.

Vetek Semiconductor هي الشركة المصنعة والمورد للمحترفين في الصين ، حيث تنتج بشكل أساسي حلقات الدعم المغلفة SIC ، وطلاءات CVD Carbide (SIC) ، وطلاءات Tantalum Carbide (TAC). نحن ملتزمون بتوفير الدعم الفني المثالي وحلول المنتجات النهائية لصناعة أشباه الموصلات ، مرحبًا بك في الاتصال بنا.