أخبار

تقدم هذه المقالة بشكل أساسي أنواع المنتجات وخصائص المنتج والوظائف الرئيسية لشركة MOCVD في معالجة أشباه الموصلات ، وتقدم تحليلًا شاملاً وتفسيرًا لمنتجات MOCVD SOSSBOSTOR ككل.

يضيء Veteksemicon في 2025 معرض Shanghai Semicon International ، الذي يقود مستقبل صناعة أشباه الموصلات مع التقنيات المبتكرة

في صناعة تصنيع أشباه الموصلات ، مع استمرار تقلص حجم الجهاز ، فإن تقنية ترسب مواد الأفلام الرقيقة قد طرحت تحديات غير مسبوقة. أصبح ترسب الطبقة الذرية (ALD) ، باعتباره تقنية ترسب فيلم رقيقة يمكن أن تحقق تحكمًا دقيقًا على المستوى الذري ، جزءًا لا غنى عنه من تصنيع أشباه الموصلات. تهدف هذه المقالة إلى تقديم تدفق العملية ومبادئ ALD للمساعدة في فهم دورها المهم في تصنيع الرقائق المتقدمة.

إنه مثالي لبناء دوائر متكاملة أو أجهزة أشباه الموصلات على طبقة قاعدة بلورية مثالية. تهدف عملية Epitaxy (EPI) في تصنيع أشباه الموصلات إلى إيداع طبقة ذات بلورة واحدة ، وعادة ما تكون حوالي 0.5 إلى 20 ميكرون ، على الركيزة ذات البلورة الواحدة. تعتبر عملية Epitaxy خطوة مهمة في تصنيع أجهزة أشباه الموصلات ، وخاصة في تصنيع رقاقة السيليكون.