أخبار

لقد شعرنا جميعًا تلك اللحظة من الذعر. بطارية هاتفك بنسبة 5 ٪ ، لديك دقائق لتجنيبها ، وكل ثانية موصولة تبدو وكأنها الأبدية. ماذا لو كان سر إنهاء هذا القلق لا يكمن في كيمياء جديدة تمامًا ، ولكن في إعادة تخيل مادة أساسية داخل البطارية نفسها؟ على مدار عقدين في طليعة التكنولوجيا ، رأيت الاتجاهات تأتي وتذهب. لكن الطنانة حول الجرافيت المسامية تشعر بأنها مختلفة. إنها ليست مجرد خطوة تدريجية ؛ إنه يمثل تحولًا أساسيًا في كيفية تعاملنا مع تصميم تخزين الطاقة.

في VETEK ، أمضينا عقودًا في تحسين حلول الرسوم البيانية المتناحية الخاصة بنا للصناعات التي تتطلب موثوقية في درجات حرارة مرتفعة. دعنا نتعرف على سبب كون هذه المادة خيارًا أفضل - وكيف تتفوق منتجاتنا على المنافسة.

بعد أن عملت في صناعة أشباه الموصلات لأكثر من عقد من الزمان ، أفهم بشكل مباشر كيف يمكن أن يكون اختيار المواد الصعبة في بيئات عالية الحرارة وعالية الطاقة. لم يكن حتى واجهت كتلة SIC في Vetek ، حيث وجدت أخيرًا حلاً موثوقًا به حقًا.

يضيء Veteksemicon في 2025 معرض Shanghai Semicon International ، الذي يقود مستقبل صناعة أشباه الموصلات مع التقنيات المبتكرة

في صناعة تصنيع أشباه الموصلات ، مع استمرار تقلص حجم الجهاز ، فإن تقنية ترسب مواد الأفلام الرقيقة قد طرحت تحديات غير مسبوقة. أصبح ترسب الطبقة الذرية (ALD) ، باعتباره تقنية ترسب فيلم رقيقة يمكن أن تحقق تحكمًا دقيقًا على المستوى الذري ، جزءًا لا غنى عنه من تصنيع أشباه الموصلات. تهدف هذه المقالة إلى تقديم تدفق العملية ومبادئ ALD للمساعدة في فهم دورها المهم في تصنيع الرقائق المتقدمة.

إنه مثالي لبناء دوائر متكاملة أو أجهزة أشباه الموصلات على طبقة قاعدة بلورية مثالية. تهدف عملية Epitaxy (EPI) في تصنيع أشباه الموصلات إلى إيداع طبقة ذات بلورة واحدة ، وعادة ما تكون حوالي 0.5 إلى 20 ميكرون ، على الركيزة ذات البلورة الواحدة. تعتبر عملية Epitaxy خطوة مهمة في تصنيع أجهزة أشباه الموصلات ، وخاصة في تصنيع رقاقة السيليكون.