أخبار

تصف هذه المقالة بشكل أساسي التكنولوجيا الفوقية ذات درجة الحرارة المنخفضة المستندة إلى GAN ، بما في ذلك الهيكل البلوري للمواد القائمة على GAN ، 3. متطلبات التكنولوجيا الفوقية وحلول التنفيذ ، ومزايا التكنولوجيا الفوقية للدرجات الحرارة المنخفضة على أساس مبادئ PVD ، وآفاق التطوير للتكنولوجيا الفوقية منخفضة درجة الحرارة.

تقدم هذه المقالة أولاً التركيب الجزيئي والخصائص الفيزيائية لـ TAC ، وتركز على اختلافات وتطبيقات كربيد tantalum المتلألئ وكربيد Tantalum CVD ، وكذلك منتجات طلاء TAC الشهيرة في أشباه الموصلات النقش.

تقدم هذه المقالة خصائص المنتج لطلاء TAC CVD ، وعملية إعداد طلاء TAC CVD باستخدام طريقة CVD ، والطريقة الأساسية للكشف عن التشكل السطحي لطلاء TAC CVD المعدة.

تقدم هذه المقالة خصائص المنتج لطلاء TAC ، وهي العملية المحددة لإعداد منتجات طلاء TAC باستخدام تقنية الأمراض القلبية الوعائية ، تقدم أكثر طلاء TAC شعبية في Veteksemicon ، وتحلل بإيجاز أسباب اختيار VeteKsemicon.

تحلل هذه المقالة الأسباب التي تجعل طلاء SIC مادة أساسية رئيسية للنمو الفوقي SIC وتركز على المزايا المحددة لطلاء SIC في صناعة أشباه الموصلات.

المواد النانوية للسيليكون (SIC) هي مواد ذات بعد واحد على الأقل على مقياس نانومتر (1-100NM). يمكن أن تكون هذه المواد صفرية أو واحدة أو ثنائية أو ثلاثية الأبعاد ولها تطبيقات متنوعة.