CVD SIC برميل مطلي بالبرميل

تم تصميم نظم Vetek Semiconductor CVD SIC المغلفة للعمليات الفوقية في تصنيع أشباه الموصلات وهو خيار مثالي لتحسين جودة المنتج والعائد. تتبنى قاعدة حساس الجرافيت المطلقة هذه بنية جرافيت صلبة وهي مغلفة بدقة بطبقة SIC بواسطة عملية الأمراض القلبية الوعائية ، مما يجعلها موصلية حرارية ممتازة ومقاومة للتآكل ومقاومة درجة الحرارة العالية ، ويمكن أن تتعامل بشكل فعال مع البيئة القاسية أثناء النمو الفوقي.

مواد المنتج والهيكل

CVD SIC Barrel Secrospor هو مكون دعم على شكل البارجة يتكون من طلاء كربيد السيليكون (SIC) على سطح مصفوفة الجرافيت ، والذي يستخدم بشكل أساسي لحمل ركائز (مثل SI ، SIC ، GAN WAFROS) في CVD/MOCVD معدات وتوفير مجال حراري موحد.

غالبًا ما يتم استخدام بنية البرميل للمعالجة المتزامنة للرقائق المتعددة لتحسين كفاءة نمو الطبقة الفوقية عن طريق تحسين توزيع تدفق الهواء وتوحيد المجال الحراري. يجب أن يأخذ التصميم في الاعتبار التحكم في مسار تدفق الغاز وتدرج درجة الحرارة.

الوظائف الأساسية والمعلمات الفنية

الاستقرار الحراري: من الضروري الحفاظ على الاستقرار الهيكلي في بيئة عالية درجة الحرارة من 1200 درجة مئوية لتجنب التشوه أو تكسير الإجهاد الحراري.

الجمود الكيميائي: يحتاج طلاء SIC إلى مقاومة تآكل الغازات المسببة للتآكل (مثل H₂ ، HCL) والمخلفات العضوية المعدنية.

التوحيد الحراري: يجب التحكم في انحراف توزيع درجة الحرارة في غضون ± 1 ٪ لضمان سمك الطبقة الفوقية وتوحيد المنشطات.

الطلاء المتطلبات الفنية

الكثافة: قم بتغطية مصفوفة الجرافيت بالكامل لمنع تغلغل الغاز مما يؤدي إلى تآكل المصفوفة.

قوة السندات: تحتاج إلى اجتياز اختبار دورة درجات الحرارة العالية لتجنب التقشير الطلاء.

المواد وعمليات التصنيع

اختيار مواد الطلاء

3C-SIC (β-SIC): نظرًا لأن معامل التمدد الحراري قريب من الجرافيت (4.5 × 10⁻⁶/℃) ، فقد أصبح مادة الطلاء السائدة ، مع الموصلية الحرارية العالية ومقاومة الصدمة الحرارية.

البديل: يمكن أن يقلل طلاء TAC من تلوث الرواسب ، لكن العملية معقدة ومكلفة.

طريقة إعداد الطلاء

ترسب البخار الكيميائي (CVD): تقنية التيار السائد التي تودع SIC على أسطح الجرافيت عن طريق تفاعل الغاز. الطلاء كثيف ويرتبط بقوة ، ولكنه يستغرق وقتًا طويلاً ويتطلب علاجًا من الغازات السامة (مثل SiH₄).

طريقة التضمين: العملية بسيطة ولكن توحيد الطلاء ضعيف ، والعلاج اللاحق مطلوب لتحسين الكثافة.

حالة السوق والتقدم التوطين

الاحتكار الدولي

تشغل شركة Toyo Carbon اليابانية الهولندية Xycard ، SGL في ألمانيا ، Toyo Carbon في اليابان أكثر من 90 ٪ من الحصة العالمية ، مما يؤدي إلى السوق الراقية.

الاختراق التكنولوجي المحلي

كان Semixlab يتماشى مع المعايير الدولية في تكنولوجيا الطلاء وقام بتطوير تقنيات جديدة لمنع الطلاء بشكل فعال من السقوط.

على مادة الجرافيت ، لدينا تعاون عميق مع SGL و Toyo وما إلى ذلك.

حالة التطبيق النموذجية

النمو الفوقي GAN

احمل الركيزة الياقوت في معدات MOCVD لترسيب فيلم GAN لأجهزة LED و RF (مثل HEMTS) لتحمل أجواء NH₃ و TMGA 12.

جهاز الطاقة كذا

تدعم الركيزة SIC الموصلة ، طبقة SIC النمو الفوقي لتصنيع أجهزة الجهد العالي مثل MOSFETS و SBD ، تتطلب عمر أساسي لأكثر من 500 دورة 17.

بيانات SEM من CVD SIC Film Film Structure:

الخصائص الفيزيائية الأساسية لطلاء CVD SIC:

انها أشباه الموصلات محلات سبل CVD SIC المغلفة بمحلات شباكة برميل: