AMAT 0200-03201 CVD SiC دبوس رفع الويفر

ميزات المنتج

 ● قلب جرافيت عالي النقاء + طلاء CVD SiC - مصمم لإنتاج أشباه الموصلات الحقيقية.

 ● يتعامل مع درجات الحرارة المرتفعة التي يتم تشغيلها دون فقدان الثبات الميكانيكي دورة بعد دورة.

 ● يقلل شكل الجدار الرقيق من الكتلة الحرارية ويحسن دقة التعامل مع الرقاقات.

 ● تتحمل طبقة SiC غازات المعالجة القاسية والتنظيف الكيميائي.

 ● الطلاء السلس والموحد يعني تساقطًا أقل للجسيمات ومعالجة أكثر استقرارًا. نحن نتحمل تفاوتات صارمة مع التصنيع باستخدام الحاسب الآلي لأجزاء أشباه الموصلات المهمة.

الخصائص الفيزيائية الأساسية لطلاء CVD SiC

التطبيقات

 ● طبقة السيليكون (Si EPI) – رفع الرقائق وتحديد موضعها وتحريكها داخل مفاعلات 300 مم.

 ● معالجة عامة لرقائق أشباه الموصلات حيث تحتاج إلى ثبات الحرارة، ومقاومة التآكل، والجسيمات المنخفضة، وعمر الجزء الطويل.

 ● غرف AMAT الفوقية وأنظمة معالجة الرقاقات المتوافقة.

لماذا تختار VeTek لأشباه الموصلات

 ● الجرافيت المطلي بـ SiC عالي النقاء والمخصص لاستخدام أشباه الموصلات.

 ● الاستقرار الحراري والمقاومة الكيميائية كلاهما صلبان.

 ● حافظ على التفاوتات الصارمة - التصنيع الدقيق هو هدفنا.

 ● متوافق مع AMAT، ASM، Aixtron، وLPE.