طلاء TAC تشاك

يعد تشاك طلاء TAC الخاص بـ VETEK Semiconductor هو الحل المثالي لتحقيق نتائج استثنائية في عملية EPI SIC. بفضل طلاء كربيد tantalum ، ومقاومة درجات الحرارة العالية ، والختام الكيميائي ، يمكّنك منتجاتنا من إنتاج بلورات عالية الجودة بدقة وموثوقية.

كربيد tac tantalum هو مادة شائعة الاستخدام لتغليف سطح الأجزاء الداخلية من المعدات الفوقية. لها الخصائص التالية:

● مقاومة درجات حرارة عالية ممتازة: يمكن لطلاء كربيد tantalum أن يصمد أمام درجات حرارة تصل إلى 2200 درجة مئوية ، مما يجعلها مثالية للتطبيقات في بيئات درجات الحرارة العالية مثل غرف التفاعل الفوقي.

● صلابة عالية: تصل صلابة كربيد tantalum إلى حوالي 2000 هونج كونج ، وهو أصعب بكثير من سبيكة الفولاذ المقاوم للصدأ أو الألومنيوم شائع الاستخدام ، والتي يمكن أن تمنع ارتداء السطح بشكل فعال.

● الاستقرار الكيميائي القوي: طلاء كربيد tantalum يؤدي بشكل جيد في البيئات التآكرية كيميائيا ويمكن أن يمتد إلى حد كبير عمر خدمة مكونات المعدات الفوقية.

● الموصلية الكهربائية الجيدة: سطح الطلاء لديه توصيل كهربائي جيد ، وهو ما يفضي إلى الإطلاق الكهروستاتيكي وتوصيل الحرارة.

هذه الخصائص تجعل طلاء كربيد tac tantalum مادة مثالية لتصنيع الأجزاء الحرجة مثل البطانات الداخلية ، وجدران غرفة التفاعل ، وعناصر التدفئة للمعدات الفوقية. من خلال طلاء هذه المكونات باستخدام TAC ، يمكن تحسين الأداء العام وعمر الخدمة للمعدات الفوقية.

بالنسبة إلى سيليكون كربيد epitaxy ، يمكن أن تلعب قطعة طلاء TAC أيضًا دورًا مهمًا. طلاء السطح سلس وكثيف ، وهو مفضي إلى تشكيل أفلام كربيد السيليكون عالية الجودة. في الوقت نفسه ، يمكن أن تساعد الموصلية الحرارية الممتازة لـ TAC في تحسين توحيد توزيع درجة الحرارة داخل المعدات ، وبالتالي تحسين دقة التحكم في درجة الحرارة في العملية الفوقية ، وتحقيق جودة أعلى في النهايةسيليكون كربيد الفوسينيةنمو الطبقة.

متاجر منتجات النيميكاتور النمطية: