أخبار الصناعة

فرن الحالة الفائقة الباحث بحجم 8 بوصات وبحوث عملية المثليين

تحلل المقالة الخواص المادية لرقائق ركيزة أشباه الموصلات مثل السيليكون، وGaAs، وSiC، وGaN

تصف هذه المقالة بشكل أساسي التكنولوجيا الفوقية ذات درجة الحرارة المنخفضة المستندة إلى GAN ، بما في ذلك الهيكل البلوري للمواد القائمة على GAN ، 3. متطلبات التكنولوجيا الفوقية وحلول التنفيذ ، ومزايا التكنولوجيا الفوقية للدرجات الحرارة المنخفضة على أساس مبادئ PVD ، وآفاق التطوير للتكنولوجيا الفوقية منخفضة درجة الحرارة.

تقدم هذه المقالة أولاً التركيب الجزيئي والخصائص الفيزيائية لـ TAC ، وتركز على اختلافات وتطبيقات كربيد tantalum المتلألئ وكربيد Tantalum CVD ، وكذلك منتجات طلاء TAC الشهيرة في أشباه الموصلات النقش.

تقدم هذه المقالة خصائص المنتج لطلاء TAC CVD ، وعملية إعداد طلاء TAC CVD باستخدام طريقة CVD ، والطريقة الأساسية للكشف عن التشكل السطحي لطلاء TAC CVD المعدة.

تقدم هذه المقالة خصائص منتج طلاء TaC، والعملية المحددة لإعداد منتجات طلاء TaC باستخدام تقنية CVD، وتقدم طلاء TaC الأكثر شيوعًا من Veteksemicon، وتحلل بإيجاز أسباب اختيار Veteksemicon.

تحلل هذه المقالة الأسباب التي تجعل طلاء SIC مادة أساسية رئيسية للنمو الفوقي SIC وتركز على المزايا المحددة لطلاء SIC في صناعة أشباه الموصلات.

المواد النانوية للسيليكون (SIC) هي مواد ذات بعد واحد على الأقل على مقياس نانومتر (1-100NM). يمكن أن تكون هذه المواد صفرية أو واحدة أو ثنائية أو ثلاثية الأبعاد ولها تطبيقات متنوعة.

CVD SIC هي مادة كربيد السيليكون عالية النقاء المصنعة بواسطة ترسب البخار الكيميائي. يستخدم بشكل أساسي لمختلف المكونات والطلاء في معدات معالجة أشباه الموصلات. المحتوى التالي هو مقدمة لتصنيف المنتج والوظائف الأساسية لـ CVD SIC

تقدم هذه المقالة بشكل أساسي أنواع المنتجات وخصائص المنتج والوظائف الرئيسية لطلاء TAC في معالجة أشباه الموصلات ، ويقوم بتحليل وتفسير شامل لمنتجات طلاء TAC ككل.

تقدم هذه المقالة بشكل أساسي أنواع المنتجات وخصائص المنتج والوظائف الرئيسية لشركة MOCVD في معالجة أشباه الموصلات ، وتقدم تحليلًا شاملاً وتفسيرًا لمنتجات MOCVD SOSSBOSTOR ككل.

اكتشف كيفية عمل PVT داخل فرن نمو بلورات SiC. التحليل الفني للتسامي والنقل الجماعي ونمو البلورات من شركة WuYi TianYao New Material Tech.Co.,Ltd.

تعتبر حلقة الجرافيت المطلية بكربيد التنتالوم المسامي (TaC) مكونًا متخصصًا في المجال الحراري مصمم لنقل البخار الفيزيائي (PVT) SiC أحادي البلورة. من خلال الجمع بين الجرافيت المسامي عالي النقاء مع طلاء كربيد التنتالوم CVD الكثيف، فإنه يوفر ثباتًا في درجة الحرارة العالية، وحماية من التآكل، وتوزيع الحرارة المتحكم فيه، والتلوث المنخفض. تشرح هذه المقالة هيكلها ومزاياها التقنية وتطبيقاتها ومواصفاتها واعتبارات الاختيار لمعدات نمو بلورات أشباه الموصلات وSiC.

من خلال استهداف عمليات الختم المحكم GTMS/CTMS، توفر VeTek حلول تركيبات جرافيت خاصة مخصصة تحتوي على 1500 ثقب صغير مصفوف بكثافة لكل 0.01 ㎡. المطابقة الدقيقة لسبائك Kovar CTE، والتغلب على تحدي التصنيع الدقيق متعدد الفتحات على مدار 10 أشهر، وتحقيق التحكم الخالي من العيوب على مستوى الميكرون والتسليم الهندسي الشامل.

في صناعة أشباه الموصلات سريعة التطور، تحدد المواد الدقيقة جودة معالجة الرقاقات وكفاءة الإنتاج بشكل مباشر. توفر VETEK حلول قارب رقاقة الكوارتز عالية النقاء عالية الأداء لـ TEL المصممة لعمليات تصنيع أشباه الموصلات المتقدمة، مما يوفر ثباتًا حراريًا ممتازًا، ومقاومة كيميائية، والتحكم في التلوث لبيئات تصنيع الرقاقات الصعبة.

بوتقة الجرافيت الزجاجية المطلية بالكربون عبارة عن مكون معالجة حرارية متقدم مصمم للتطبيقات الصعبة مثل تصنيع أشباه الموصلات، ونمو البلورات، والمعالجة الحرارية الفراغية، وأبحاث المواد ذات درجات الحرارة العالية. تشرح هذه المقالة هيكلها ومزاياها وتطبيقاتها واعتبارات الاختيار. توفر VeTek Semiconductor حلول بوتقة عالية الأداء تجمع بين تقنية طلاء الكربون الزجاجي وتصنيع الجرافيت الدقيق لتلبية المتطلبات الصارمة للصناعات الحديثة.