منتجات
CVD SiC المطلي بالجرافيت لحامل الرقاقة
  • CVD SiC المطلي بالجرافيت لحامل الرقاقةCVD SiC المطلي بالجرافيت لحامل الرقاقة

CVD SiC المطلي بالجرافيت لحامل الرقاقة

إن جهاز VETEK CVD SiC المطلي بالجرافيت لحامل الرقاقة هو مكون دعم للرقاقة عالي الأداء مصمم لعمليات تنضيد أشباه الموصلات. يستخدم المنتج الجرافيت عالي النقاء كركيزة ومغطى بطبقة موحدة من كربيد السيليكون CVD (SiC)، مما يوفر ثباتًا حراريًا ممتازًا، ومقاومة كيميائية، والتحكم في الجسيمات. وباعتباره مكونًا حاسمًا لمستقبلات الجرافيت، فهو يدعم بشكل مباشر الرقائق داخل غرفة التفاعل ويساعد في الحفاظ على توزيع موحد لدرجة الحرارة وظروف نمو فوقي مستقرة.

1. مزايا المنتج


  • مواد عالية النقاء:تعمل مادة الجرافيت من فئة أشباه الموصلات وهيكل الطلاء الكثيف من SiC على تقليل مخاطر التلوث وتحسين موثوقية متقبل الجرافيت المطلي بـ CVD SiC.
  • التوحيد الحراري الممتاز:يوفر هيكل الجرافيت الأمثل وطلاء SiC نقلًا ثابتًا للحرارة وتحكمًا موحدًا في درجة حرارة الرقاقة.
  • مقاومة كيميائية متفوقة:يوفر طلاء SiC الكثيف مقاومة قوية ضد غازات المعالجة والبيئات المسببة للتآكل.
  • عمر الخدمة الطويل:تعمل الصلابة العالية ومقاومة التآكل على تحسين المتانة في ظل ظروف درجات الحرارة المرتفعة.
  • توليد الجسيمات المنخفضة:يقلل سطح CVD SiC الكثيف من إطلاق الجسيمات ويحسن موثوقية عملية الرقاقة.
  • القدرة على التصميم حسب الطلب:متوفر بأحجام وهياكل وتكوينات مختلفة وفقًا لمتطلبات المعدات.



2. المواصفات الفنية

غرض
القيمة النموذجية
مادة الركيزة
الجرافيت عالي النقاء
مواد الطلاء
كربيد السيليكون CVD (SiC)
نقاء كربيد السيليكون
≥99.999%
سمك الطلاء
100 ± 20 ميكرومتر (قابل للتخصيص)
توحيد سماكة الطلاء
يتم التحكم بها خلال 10 ميكرومتر بين الدفعات
كثافة طلاء CVD SiC
3.21 جم/سم3
الموصلية الحرارية
300 واط/م·ك
معامل التمدد الحراري
4.5 × 10⁻⁶/ك

3. التطبيقات


  • عملية صقل SiC:يتم استخدام مستقبل الجرافيت كحامل رقاقة في معدات الفوقية SiC، لدعم ركائز SiC أثناء النمو الفوقي عالي الحرارة.
  • عملية نشوء السيليكون:يتم تطبيقه في مفاعلات السيليكون الفوقي لدعم الرقائق والحفاظ على ظروف حرارية مستقرة.
  • MOCVD نبوءة:إن مستقبلات الجرافيت VETEK مناسبة لعمليات MOCVD، وLED epitaxy، وGaN epitaxy، وsilicon epitaxy، وغيرها من عمليات تصنيع أشباه الموصلات التي تتطلب تجانسًا حراريًا ممتازًا وثباتًا كيميائيًا.
  • معدات تصنيع أشباه الموصلات:متوافق مع مختلف المنصات الفوقية، بما في ذلك أفران LPE الأفقية، وAixtron، وNuFlare، ومعدات أشباه الموصلات ذات الصلة.



4. لماذا تختار فيتيك؟

توفر VETEK حلولًا مخصصة لحساسات الجرافيت المطلية بـ CVD SiC والتي تدمج بين تنقية الجرافيت، والتصنيع الدقيق، وطلاء CVD، وقدرات الفحص. تتميز منتجاتنا الممتصة للجرافيت من فئة أشباه الموصلات بدرجة نقاء عالية، وسمك طلاء موحد، وأداء حراري ممتاز، وعمر خدمة طويل لتطبيقات حاملات الرقاقة المتطلبة.

الكلمات الساخنة: مستقبل الجرافيت المطلي بـ SiC CVD، مستقبل الجرافيت، حامل رقاقة الجرافيت المطلي بـ SiC، مستقبل الفوقيت لأشباه الموصلات، مستقبل الجرافيت MOCVD، حامل رقاقة SiC، مستقبل الجرافيت CVD SiC
إرسال استفسار
معلومات الاتصال
  • عنوان

    طريق وانغدا، شارع زيانغ، مقاطعة وويي، مدينة جينهوا، مقاطعة تشجيانغ، الصين

  • بريد إلكتروني

    anny@veteksemi.com

For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
X
نحن نستخدم ملفات تعريف الارتباط لنقدم لك تجربة تصفح أفضل، وتحليل حركة مرور الموقع، وتخصيص المحتوى. باستخدام هذا الموقع، فإنك توافق على استخدامنا لملفات تعريف الارتباط. سياسة الخصوصية
يرفضيقبل