دعم الجرافيت المطلي TAC

مرحبًا بك للحضور إلى مصنعنا VeTek Semiconductor لشراء أحدث المنتجات مبيعًا والسعر المنخفض والجودة العالية من TaC Coated Graphite Susceptor. ونحن نتطلع إلى التعاون معكم.

تعتبر نقطة ذوبان مواد السيراميد Tantalum Carbide نقطة حتى 3880 ℃ ، نقطة انصهار عالية واستقرار كيميائي جيد للمركب ، ولا تزال بيئة درجة الحرارة العالية تحافظ والتوافق الميكانيكي مع مواد الكربون والخصائص الأخرى ، مما يجعلها مادة طلاء واقية من الجرافيت المثالية. يمكن لطلاء كربيد التانتالوم أن يحمي بفعالية مكونات الجرافيت من تأثير الأمونيا الساخنة والهيدروجين والبخار السيليكون والمعادن المنصهرة في بيئة الاستخدام القاسية ، ويمتد بشكل كبير عمر خدمة مكونات الجرافيت ، وتمنع ترحيل الشفقة في الجرافيت ، ضمان جودة النمو epitaxy و crystal. يستخدم بشكل أساسي في عملية السيراميك الرطب.

يعد ترسيب البخار الكيميائي (CVD) طريقة التحضير الأكثر نضجًا والأمثل لطلاء كربيد التنتالوم على سطح الجرافيت.

طريقة طلاء CVD TaC لمستقبل الجرافيت المطلي بـ TaC:

تستخدم عملية الطلاء TaCl5 والبروبيلين كمصدر للكربون ومصدر للتنتالوم على التوالي، والأرجون كغاز حامل لإحضار بخار خماسي كلوريد التنتالوم إلى غرفة التفاعل بعد التغويز بدرجة حرارة عالية. تحت درجة الحرارة والضغط المستهدفين، يتم امتصاص بخار المادة الأولية على سطح جزء الجرافيت، وتحدث سلسلة من التفاعلات الكيميائية المعقدة مثل التحلل والجمع بين مصدر الكربون ومصدر التنتالوم. وفي الوقت نفسه، تتضمن أيضًا سلسلة من التفاعلات السطحية مثل انتشار المادة الأولية وامتزاز المنتجات الثانوية. وأخيرًا، يتم تشكيل طبقة واقية كثيفة على سطح جزء الجرافيت، مما يحمي جزء الجرافيت من الثبات في ظل الظروف البيئية القاسية. تم توسيع سيناريوهات تطبيق مواد الجرافيت بشكل كبير.

معلمة المنتج لمستقبل الجرافيت المطلي بـ TaC:

متاجر الإنتاج:

نظرة عامة على سلسلة صناعة رقائق أشباه الموصلات: